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實(shí)驗(yàn)室玻璃降膜蒸發(fā)儀EFF用于液體混合物的溫和部分蒸發(fā)，特別是當(dāng)工藝要求（如在高蒸發(fā)率時(shí)保持低工作壓力）超過(guò)傳統(tǒng)蒸發(fā)器的處理能力時(shí)。原料液體由頂部進(jìn)料位置分批或連續(xù)進(jìn)入蒸發(fā)器，通過(guò)特殊的物料分配系統(tǒng)以薄膜形式連續(xù)均勻地分布在蒸發(fā)器加熱管內(nèi)表面并向下移動(dòng)。沸點(diǎn)較低的物質(zhì)從下降的物料膜中蒸發(fā)，與剩余的液體一起進(jìn)入到降膜蒸發(fā)器的低部集液器后，以蒸汽的形式被輸送到外部冷凝器冷凝為餾出物液體后流出。

從實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)規(guī)模的薄膜與分子蒸餾多級(jí)設(shè)備 ?蒸發(fā)面積：0.018m2到80m2 ?真空度：可達(dá)0.001 mbar ?蒸餾溫度200℃、250℃、350℃、480℃ ?主要材質(zhì)：硼硅玻璃、不銹鋼、鈦合金、哈氏合金等

從實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)規(guī)模的薄膜與分子精餾設(shè)備，主要特點(diǎn)為：$n●專門為復(fù)雜體系熱敏性物質(zhì)的精細(xì)分離而設(shè)計(jì)$n●型號(hào)：RF/TFE15-RC, RF/TFE20-RC, RF/TFE30-RC, RF/TFE50-RC。$n●蒸發(fā)面積0.018m2到0.5m2；$n●真空度：可達(dá)0.001 mbar$n●蒸餾溫度200℃、250℃、350℃、480℃$n●主要材質(zhì)：硼硅玻璃、不銹鋼、鈦合金、哈氏合金等

從實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)規(guī)模的短程（分子）蒸餾與薄膜蒸發(fā)設(shè)備 ●型號(hào)：RF/TFE15, RF/TFE 20, RF/TFE 30, RF/TFE 50 ●蒸發(fā)面積0.018m2到0.5m2 ●真空度：可達(dá)0.001 mbar ●蒸餾溫度200℃、250℃、350℃、480℃ ●主要材質(zhì)：硼硅玻璃、不銹鋼、鈦合金、哈氏合金等

中試型不銹鋼薄膜蒸發(fā)與分子蒸餾設(shè)備KD10/SPD-E10，專門為復(fù)雜體系熱敏性物質(zhì)的分離提純而設(shè)計(jì)的。設(shè)備的核心部件為薄膜蒸發(fā)與分子蒸餾器KD10/SPD-E10。主要部件包括：薄膜蒸發(fā)器、外置冷凝器、冷阱、以及與物料粘度相匹配的成膜系統(tǒng)等。輔助設(shè)備包括進(jìn)料系統(tǒng)、重組分與餾分出料系統(tǒng)、部分與深度冷凝器、真空系統(tǒng)、相應(yīng)的加熱與冷凝裝置等。

中試型不銹鋼薄膜蒸發(fā)儀RF10/TFE10，專門為復(fù)雜體系熱敏性物質(zhì)的分離提純而設(shè)計(jì)的。設(shè)備的核心部件為薄膜分子蒸發(fā)器RF10/TFE10。主要部件包括：薄膜蒸發(fā)器、外置冷凝器、冷阱、以及與物料粘度相匹配的成膜系統(tǒng)等。輔助設(shè)備包括進(jìn)料系統(tǒng)、重組分與餾分出料系統(tǒng)、部分與深度冷凝器、真空系統(tǒng)、相應(yīng)的加熱與冷凝裝置等。